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Offre de formationodfLevel1://XB?rootId=page://11285f75-54cc-4102-adfc-bba834e8dd7bCONTAINER
Masterprogram://_root?rootId=page://11285f75-54cc-4102-adfc-bba834e8dd7b&programId=programContent://eb186ecb-5a62-47cd-8d8c-684afee7eb48CONTAINER
Master Physique fondamentale et applicationsprogram://master-physique-fondamentale-et-applications-LMGC27C8?rootId=page://11285f75-54cc-4102-adfc-bba834e8dd7b&programId=subProgramContent://51541bc6-e7a9-4144-a55b-7d97e910381d&parentId=programContent://eb186ecb-5a62-47cd-8d8c-684afee7eb48CONTAINER
Parcours Physics, photonics and nanotechnology- UE11 - Electronic and UV Lithography
UE11 - Electronic and UV Lithography
Composante
UFR Sciences et Techniques
Heures d'enseignement
- CMCours Magistral10h
- TDTravaux Dirigés10h
- TPTravaux Pratiques10h
Modalités de contrôle des connaissances
Évaluation initiale / Session principale - Épreuves
Type d'évaluation | Nature de l'épreuve | Durée (en minutes) | Nombre d'épreuves | Coefficient de l'épreuve | Note éliminatoire de l'épreuve | Remarques |
---|
CC (contrôle continu) | Epreuve pratique | | | 4 | | |
Seconde chance / Session de rattrapage - Épreuves
Type d'évaluation | Nature de l'épreuve | Durée (en minutes) | Nombre d'épreuves | Coefficient de l'épreuve | Note éliminatoire de l'épreuve | Remarques |
---|
CT (contrôle terminal) | Epreuve Orale | | | 2 | | Report EP coef 2 |